【文/观察者网 吕栋】“中国不太可能独立复制（replicate）出顶尖的光刻技术，因为阿斯麦依赖于不懈的创新，以及整合只有从非中国供应商处才能获得的零部件。但我的意思并不是绝对不可能，因为中国的物理定律和我们这里是一样的。永远别那么绝对（Never say never），他们肯定会尝试的。”当地时间1月19日，荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）CEO温彼得（Peter Wennink）表示。
光刻机是芯片制造核心设备，也是研发难度最大的半导体设备。目前，阿斯麦垄断着全球顶尖光刻机市场，该公司也因此被美国视为围堵中国大陆芯片产业发展的“政治棋子”。而温彼得在做出上述表述的同时还透露，阿斯麦尚未获得向中国大陆出口最先进光刻机的许可，但一些生产成熟制程的光刻机出口并不受限制。
CINNO Research半导体事业部总经理Elvis Hsu在接受观察者网采访时表示，光刻机是半导体制造设备价格占比最高的部分，约25-30%。其研发难点在于曝光光源、对准系统和透光镜头等技术的整合，以及庞大资金投入。目前国内技术领先的光刻机研制厂家是上海微电子，可以稳定生产90/65nm制造工艺的光刻机。
路透社报道截图
刚过去的2021年是全球芯片短缺最严重的一年，作为半导体制造关键设备提供商，阿斯麦1月19日也拿出一份亮眼业绩。财报显示，阿斯麦2021年总营收为186亿欧元（约合人民币1339亿元），同比增长33%；净利润为59亿欧元（约合人民币425亿元），同比增长66%；毛利率为53%，比上年同期提高4个百分点。
阿斯麦CEO温彼得表示，2021年营收中有63亿欧元来自42个EUV系统（极紫外光刻机）订单，比上年多11个。该公司在过去一年经历许多挑战，市场需求比最大产能高出40%至50%。为提高对客户的支持，该公司选择缩短周期以运送更多设备，主要通过快速发货流程跳过工厂的一些测试，并在客户现场进行最终测试和正式验收。虽然这会使收入确认推迟到客户正式验收前，但能帮助客户提早进行晶圆生产。
增加员工数量，也成为阿斯麦应对需求增长的方法。温彼得表示，该公司计划在今年年底前将员工人数从目前的3.15万人增加到3.5万人。他透露，该公司在2021年净增加4000多名新员工，到2022年底，员工人数将比2020年底增加近30%。不过，温彼得表示，该公司可能需要两到三年才能实现供需平衡。随着新工厂的建设，到2025年或2026年，全球半导体行业甚至可能出现“某种程度的供过于求”。
单从四季度来看，阿斯麦实现营收50亿欧元，净利润18亿欧元，毛利率达到54.2%；新增订单金额71亿欧元。期内，该公司共出货82台光刻系统，环比上季度增加3台；其中EUV光刻系统11台，比上个季度减少4台；在所有出货中，73%光刻机被用于逻辑工艺制造，27%的光刻机用于存储芯片生产。
阿斯麦2021年四季度财报截图
从出货地来看，中国台湾依然是阿斯麦的最大市场，四季度有51%的光刻系统发往当地，占比环比提升5个百分点；韩国是该公司第二大市场，同期有27%的光刻系统发往当地，占比环比下降6个百分点；中国大陆是阿斯麦第三大市场，四季度有22%的光刻系统向当地出货，占比提升12个百分点。2021年三季度，美国和日本分别在阿斯麦出货中占比10%和1%，但四季度占比均意外降为0，具体原因尚不清楚。
阿斯麦光刻机出货信息
过去几年，阿斯麦一直在研发高数值孔径（0.55 NA）EUV光刻机。这种EUV光刻机采用最新的光学设计，具有更高的分辨率（由13nm升级到8nm），可以使芯片面积缩小1.7倍，晶体管密度增加2.9倍。与目前的0.33 NA EUV光刻机相比，0.55 NA光刻机可以显著提高良率、降低成本和缩短生产周期。当然，0.55 NA光刻机的价格也相当昂贵，每台售价约为3亿美元（约合人民币19亿元），比0.33 NA光刻机售价高出一倍。
目前，台积电等生产7nm-5nm制程的芯片采用的都是0.33 NA EUV光刻机，而第一代0.55 NA光刻机TWINSCAN EXE：5000还在研发过程中，预计2023年上市。早在2018年，英特尔就率先向阿斯麦下单第一代0.55 NA EUV光刻机，该公司也有望成为首个0.55 NA EUV光刻机的使用者，并将其用于3nm及以下制程。
