X射线能谱仪(Energy Dispersive Spectrometer；EDS)是对材料微区成分元素种类与含量进行分析的一种仪器。近几十年来, 随着扫描电子显微镜、电子探针仪和透射电子显微镜的普及，这些大型分析仪器也都相应地装配了X射线能谱仪，广泛地应用于冶金学、地质学、物理学、动物学、医药学、环保学等科学领域，分析的对象包括半导体材料、电子封装材料、催化剂、聚合物、建材、生物材料等，是应用最为广泛的元素分析仪器之一。
根据国家市场监督管理总局2018年国家计量技术法规制/修订计划，受全国新材料与纳米计量技术委员会的委托，由山东省计量科学研究院、中国计量科学研究院和苏州市计量测试院负责制定《X射线能谱仪校准规范》技术规范的工作，并于日前完成起草修订，同时向全国有关单位征求意见和建议。
编制背景：
现今国内能谱仪市场已基本被国外仪器厂商垄断，英国牛津仪器、德国布鲁克公司、美国EDAX、日本HORIBA等知名厂商开发生产了多种适用于不同仪器的X射线能谱仪，元素检测范围一般为Be~U。最新一代的电制冷能谱仪配备硅漂移探头（SDD），较液氮能谱的计数率至少提高10倍，极大地提高分析效率的同时，没有分析效果的损失。硅晶体尺寸从适合于微米分析的10 mm2到纳米材料分析专用150 mm2均可选择，随着晶体的增加，计数率大幅提升，探测器的分析速度显著提高。
目前全国微束分析标准化技术委员会已颁布能谱法分析相关标准，如GB/T 17359-2012《能谱法定量分析》、GB/T 20726《半导体探测器X射线能谱仪通则》、GB/T 21636—2008 微束分析 电子探针显微分析(EPMA)术语和GB/T 25189-2010《微束分析 扫描电镜能谱仪定量分析参数的测定方法》等，但国家还未发布能谱仪相关的计量技术法规。受到被测样品表面粗糙度、均一性和测试条件等因素的影响，不同仪器对同一材料的测量结果会有5%~10%以上的偏差。通过制定X射线能谱仪校准规范，可以进一步规范X射线能谱仪的生产和使用，满足日益增长的市场需求，保证其量值传递的准确可靠。
规范适用范围：
由于仪器原理、操作条件和试样标准的不同，本标准仅适用于扫描电子显微镜（SEM）和电子探针仪（EPMA）装配的X射线能谱仪。
本规范主要依据JJF1071-2010《国家计量校准规范编写规则》进行编制，JJF1001-2011《通用计量术语及定义》、JJF1059.1-2012《测量不确定度评定与表示》、JJF 1094-2002《测量仪器特性评定》共同构成支撑校准规范制定工作的基础性系列规范。
本规范为首次制定，主要技术内容和计量特性参考了GB/T 17359-2012《能谱法定量分析》、GB/T 20726《半导体探测器X射线能谱仪通则》、GB/T 21636—2008 微束分析 电子探针显微分析(EPMA)术语和GB/T 25189-2010《微束分析 扫描电镜能谱仪定量分析参数的测定方法》的部分内容。
规范的主要内容：
1、按照JJF 1071-2010《国家计量校准规范编写规则》的要求制定X射线能谱仪校准规范，在内容和格式上与JJF 1071-2010保持一致。校准规范的具体内容有范围、概述、计量特性、校准条件、校准项目和校准方法、校准结果的表达、复校时间间隔等。
2、参考GB/T 17359-2012《能谱法定量分析》、GB/T 20726《半导体探测器X射线能谱仪通则》和GB/T 25189-2010《微束分析 扫描电镜能谱仪定量分析参数的测定方法》，并结合部分专家意见，最终确定X射线能谱仪3项计量特性，分别为能量分辨率、定量分析示值误差和定量分析示值重复性。针对每一校准项目，规定了使用的标准器/标准物质，明确了相应的校准操作。
